勻膠鉻版

勻膠鉻版是一種硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是當前及未來微細加工光掩膜製作的主流感光材料（相當於照相用的感光膠捲）。它是在平整的、高光潔度的玻璃基版上通過直流磁控濺射（SP）沉積上氮化鉻-氮氧化鉻薄膜而形成鉻膜基版，再在其上塗敷一層光致抗蝕劑（又稱光刻膠）或電子束抗蝕劑製成勻膠鉻版。
勻膠鉻版具有高的感光靈敏度、高解析度、低缺陷密度、耐磨性好、易清潔處理、使用壽命長等特點，當前被廣泛套用於IC、LCD、PCB、PDP、DOT等產品掩膜版的製作。