光生伏打效應

光生伏打效應

由光照引起電動勢的現象。嚴格來講,包括兩種類型:一類是發生在均勻半導體材料內部;一類是發生在半導體的界面。雖然它們之間有一定相似的地方,但產生這兩個效應的具體機制是不相同的。通常稱前一類為丹倍效應,而把光生伏打效應的涵義只局限於後一類情形。

光生伏打效應

正文

由光照引起電動勢的現象。嚴格來講,包括兩種類型:一類是發生在均勻半導體材料內部;一類是發生在半導體的界面。雖然它們之間有一定相似的地方,但產生這兩個效應的具體機制是不相同的。通常稱前一類為丹倍效應,而把光生伏打效應的涵義只局限於後一類情形。
半導體界面包括有:由於摻雜質不同而形成的P型區和N型區的界面,即PN結;金屬和半導體接觸的界面;不同半導體材料製成的異質結界面以及由金屬-絕緣體-半導體組成的 MIS系統的界面。在這些界面處都存在有一個空間電荷區,其中有很強的電場,稱為自建電場。光照產生的電子-空穴對,在自建電場作用下的運動,就是形成光生伏打效應的原因。下面以PN結為例進一步具體說明。
在PN結交界面處N區一側帶正電荷,P區一側帶負電荷,空間電荷區中自建電場的方向自N區指向P區。由於光照可以在空間電荷區內部產生電子-空穴對,它們分別被自建電場掃向N區和P區,就如同有一個電子由P區穿過空間電荷區到達N區,形成光致電流。在空間電荷區附近一定範圍內產生的電子-空穴對,只要它們能通過擴散運動到達空間電荷區,同樣可以形成光致電流,光照產生的電子和空穴擴散運動所能走的距離為擴散長度。光致電流使N區和P區分別積累了負電荷和正電荷,在PN結上形成電勢差,引起方向與光致電流相反的N結正向電流。當電勢差增長到正向電流恰好抵消光致電流的時候,便達到穩定情況,這時的電勢差稱為開路電壓。如果PN結兩端用外電路連線起來,則有一股電流流過,在外電路負載電阻很低的情況,這股電流就等於光致電流,稱為短路電流。
光生伏打效應的套用之一是把太陽能直接轉換成電能,稱為太陽電池。目前,用矽單晶材料製造的太陽電池,已經廣泛地套用於很多技術部門,特別是航天技術。但是單晶矽太陽電池造價比較高。1975年實現了非晶矽的摻雜效應以後,很多人認為利用大面積非晶矽薄膜製備太陽電池是很有希望的。此外,利用光生伏打效應製成的光電探測器件也得到廣泛的套用。

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