發展過程
電子衍襯像透射電子顯微鏡（見電子顯微鏡）於1932年問世之後，就因其分辨本領高而用來觀察光學顯微鏡所看不見的細節。可是對於固體材料,由於電子的穿透本領弱,早期只能藉助表面復型技術（用有機薄膜把固體表面狀態複製下來）觀察固體表面的形貌。這種電子顯微像的襯度藉助於物鏡光闌孔對散射電子的吸收而形成，故稱吸收襯度。50年代發展了薄膜製備技術，才開始用電子顯微鏡來觀察固體材料的內部結構。在電子顯微鏡中，電子被薄晶體試樣所衍射，用衍射束（或透射束）所形成的電子顯微像，其襯度來源於衍射波振幅的變化，為衍射振幅襯度像，簡稱衍襯像。這樣就發展了衍襯技術。
如果讓透射束和衍射束同時參與成像，像就能反映出晶體結構的周期性（見點陣像）。但如果只讓透射束或某個衍射束通過物鏡光闌，則不能形成反映晶體結構周期的像。不過，因薄晶體下表面不同地點衍射波的振幅（及強度）分布對應於晶體各部分不同的衍射能力，當晶體中存在缺陷時，缺陷區域的衍射能力不同於完整區域，使各衍射波（及透射波）的振幅（及強度）分布不均勻，反映出晶體缺陷的分布情形。這就是衍襯像的成像原理。晶體缺陷衍射強度的確切來由可藉助電子衍射理論來闡明。運動學衍射理論可以給出一個定性的解釋。動力學衍射理論可以給出定量的解釋（見衍射動力學理論）。
分類
電子衍襯像大體可分為兩種類型：①是具有一定巨觀不均勻性（厚度、取向不同等）的完整晶體所產生的，像上呈一些黑線,稱為消光輪廓,類似物理光學中的等厚與等傾干涉條紋。②是由晶體缺陷所產生的。例如堆垛層錯（見面缺陷）在像上表現為黑白相間的條紋，位錯則表現為直線或曲線。
電子衍襯像在實際工作中，為了便於解釋，常用雙光束條件成像。為此需調整晶體取向，只令某一衍射束充分滿足布喇格條件，這樣就只有一個衍射束的強度比較強，可以只考慮此衍射束與透射束之間的相互作用。建立在上述近似基礎上的衍射理論稱雙光束動力學理論，用它可以解釋許多缺陷的衍射襯度。在雙光束條件下，如果衍射束成像，所得的像稱暗場像；若用透射束成像，則稱明場像。
隨著透射電子顯微鏡分辨本領的提高，70年代發展了弱束技術衍襯像。利用遠離布喇格條件的弱衍射束得到的暗場像有較高的解析度。
參考書目
全國第二屆金屬物理學術會議論文集編輯委員會編：《X射線學及電子顯微術進展》，第267頁，上海科學技術出版社，上海，1966。 P.B.Hirsch,et αl.,Electron Microscopy of Thin Crystals,2nd ed., Krieger, New York, 1977.
