磁射流拋光

簡介

磁射流拋光技術(Magnetorheological Jet Polishing,MJP)是將射流技術和磁流變技術相結合, 利用低粘度
磁流變液在外磁場的作用下發生磁流變效應, 表觀粘度增大來增加射流束表面的穩定性, 混合有磨粒的磁流變液在噴嘴處軸向磁場的作用下形成準直硬化的射流束噴射到一定距離處的工件表面, 藉助於磨粒的高速碰撞剪下作用實現材料的去除, 以可控的方式實現拋光表面修整。
磁射流和磁流變液的綜合運用來對導磁性材料加工的是美國QED公司的Kordonski等人首先發明並研究了磁射流拋光技術的第一個美國專利, 以及後來的國防科技大學的張學成等人的磁射流拋光技術研究從而實現了磁射流技術的加工套用, 在這些研究的基礎上開始實現了磁射流拋光技術的套用。

發生裝置

磁射流拋光的發生裝置由磁場發生裝置、回收裝置、攪拌裝置、泵、冷卻裝置和工具機本體等組成。在磁場發生裝置中, 需要磁流變液在攪拌裝置中得到充分攪拌以後, 由吸入泵按照限定的流量升壓以後, 再經過處於磁場中的噴嘴高速碰射到工件表面, 進行確定性加工, 然後用收集器把使用過的磁流變液收集並進行過濾冷卻, 從而進行下一輪的拋光。裝置里的磁場發生裝置是由螺線圈和充當鐵芯的噴嘴組成的, 噴嘴是用鐵磁性材料製成的錐形噴嘴, 錐形噴嘴有利於射流束速度的提高和磁場強度的集中。另外, 在螺線圈周圍添加一個用高磁導率材料做成的磁禁止體, 可以使噴嘴處的磁場強度提高兩倍以上, 有利於磁場強度的集中, 同時也可以使加工對象不受磁場的干擾, 使加工材料從光學材料擴展到導磁性材料, 很大程度上提高了磁射流拋光技術的套用範圍。