高真空離子濺射儀

3.接下來儀器就開始自動洗靶，自動濺射，濺射結束後要稍等片刻，然後按stop放氣。 2.接下來儀器就開始自動洗靶，自動濺射，濺射結束後要稍等片刻，然後按stop放氣。 待放氣操作完成後，開蓋，取出樣品。

使用膜厚監控

1.打開總電源，打開氬氣開關（兩成保持在0.035Mpa左右，濺射時也要注意氬氣的流量）。

2.按主機背面的開關按鈕，進入開機界面，根據提示進行下面一系列的操作。

3.接下來儀器就開始自動洗靶，自動濺射，濺射結束後要稍等片刻，然後按stop放氣。待放氣操作完成後，開蓋，取出樣品。

4.Target B type操作同上。

不用末後監控

1.其餘操作步驟同上，但要根據自己的需要設定濺射電流和濺射時間（最長時間是4min），和循環次數（最多循環9次），按上下鍵設定時間。

2.接下來儀器就開始自動洗靶，自動濺射，濺射結束後要稍等片刻，然後按stop放氣。待放氣操作完成後，開蓋，取出樣品。

3.B靶操作同A靶。