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濺鍍
在真空環境下，通入適當的惰性氣體作為媒介，靠惰性氣體加速撞擊靶材，使靶材表面原子被撞擊出來，並在表面形成鍍膜。
簡介 濺鍍機設備與工藝 -
真空鍍
真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型，它們都是採用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到...
簡介 套用 -
真空磁控濺射技術
真空磁控濺射技術是指一種利用陰極表面配合的磁場形成電子陷阱，使在E×B的作用下電子緊貼陰極表面飄移。設定一個與靶面電場正交的磁場，濺射時產生的快電子在正...
原理 特點 分類 方法 存在問題 -
真空鍍膜技術
《真空鍍膜技術》是由張以忱編寫，冶金工業出版社出版的一本書籍。 該書具有很強的實用性，適合於真空鍍膜行業、薄膜與表面套用、材料工程、套用物理以及與真空鍍...
內容簡介 圖書目錄 -
真空科學與技術叢書：真空鍍膜
《真空鍍膜》是本著突出近代真空鍍膜技術進步，注重系統性、強調實用性而編著的。全書共11章，內容包涵了真空鍍膜中物理基礎，各種蒸發源與濺射靶的設計、特點、...
內容簡介 圖書目錄 序言 -
磁控濺射技術
磁控濺射原理：電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大...
簡介 材料性能 -
玻璃製造技術基礎
《玻璃製造技術基礎》作者：張銳，陳德良，楊道媛，出版社：化學工業出版社，出版時間：2009-1-1 。
圖書信息 內容簡介 圖書目錄 圖書序言 -
物理氣相沉積
蒸鍍是PVD法中使用最早的技術。濺射鍍膜基本原理是充氬(Ar)氣的真空...放電引起的稱射頻濺射。磁控(M)輝光放電引起的稱磁控濺射。 電弧電漿...，採用某種電漿電離技術，使鍍料原子部分電離成離子，同時產生許多高能量...
簡介 詳述 -
加工玻璃生產操作問答
現狀如何？521.我國加工玻璃有哪些發展趨勢？5第二章 玻璃加工前處理技術...
內容簡介 編輯推薦 目錄 序言 -
納米薄膜技術與套用
《納米薄膜技術與套用》是2005年化學工業出版社出版的圖書，作者是陳光華，鄧金祥。本書主要對納米薄膜的基本知識進行了詳細介紹，可供從事納米材料的納米電子...
基本信息 內容簡介 目錄
