產品介紹
由CavoSpecialLubricants加孚公司自主研製的S-50藍寶石襯底材料拋光液是解決藍寶石襯底材料拋光過程中存在的襯底片表面去除速率低、粗糙度高、易劃傷、易蹋邊等問題，而開發的一款化學機械拋光液具有化學作用強、去除速率快，表面粗糙度低、無劃傷，且成本低的藍寶石襯底材料拋光液。
本產品中各組分的作用分別為：納米SiO2溶膠作為拋光液磨料，其粒徑小（30～80nm）、濃度高（＞30%）、硬度小（對基片損傷度小）、分散度好，能夠達到高速率高平整低損傷拋光、污染小，解決了Al2O3磨料硬度大易劃傷、易沉澱等諸多弊端；該鹼性拋光液對PH有很好的緩衝作用，產物易溶於水，使反應產物在小的機械作用下即可脫離加工表面，同時還能很好地去除金屬離子。
該產品能夠快速的待加工材料進行反應，起到增強化學作用的目的，能降低表面張力，提高凹凸選擇性，又能起到滲透和潤滑作用，從而有效的提高了交換速率，增強了輸運過程，達到高平整高光潔表面。
S-50系類藍寶石材料拋光液使用說明
技術指標 項目（Item） 規格（Specifications）
磨料(Material) SIO2
粒徑(Particlesize) 30-50nm
粘度(Viscosity) ＞4CP
稀釋比例(Dilutionratio) 1：1或1：3或1：5
PH值(Phvalue) ＞10.2
磨料含量Abrasivecontent ＞30
去除速率MRR 10-15um/h
加工後翹曲度BOW ≦20µm
加工後表面粗糙度(SurfaceRoughness) Ra<1nm<><1nm<><1nm<><1nm
使用範圍 ※精密光學器件、晶體、藍寶石襯底、藍寶石視窗鏡面精密拋光
※光纖連線器拋光
※金屬、合金、不鏽鋼拋光
※多種複合晶體拋光
※半導體材料拋光，用於半導體晶片氧化物層，襯底的拋光
產品特點
※高純度、離子含量低，減小對電子產品的玷污（Cu2+含量小於50ppb）
※粒度小、分布集中，高平坦度加工
※拋光速率快、表面質量高
※產品穩定性好、儲存期長
儲存條件 儲存溫度 0~35℃ 儲存濕度 20~70%
保存期限 1年
