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濺射工藝
濺射工藝是以一定能量的粒子（離子或中性原子、分子）轟擊固體表面，使固體近表面的原子或分子獲得足夠大的能量而最終逸出固體表面的工藝。濺射只能在一定的真空狀態下進行。
定義 原理 參考書目 -
濺射蝕刻
乾法蝕刻有濺射蝕刻、等離子蝕刻和反應離子蝕刻三種主要方法。離濺射蝕刻利用低氣壓下惰性氣體輝光放電所產生的離子加速後入射到薄膜表面使裸露的薄膜被濺射而除去...
乾法蝕刻 濺射蝕刻反應器 塑膠表面濺射蝕刻處理改性 -
等離子濺射
而不能濺射。等離子濺射設備就是用熱陰極發射的電子或高頻激勵等方法使低壓氣體...等離子濺射設備陰極濺射設備中，為維持輝光放電，需要較高的氣壓和電壓...。因此，如能在低壓下進行濺射，必定會有若干優點。但當氣體壓強降低後， 由於...
等離子濺射設備 工藝原理 優點 -
高頻二極濺射
高頻二極濺射highfrequen cydiodesputterin g：通過二個電極間的高頻電壓獲得高頻放電而使靶極獲得負電位的濺射。
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熱陰極高頻濺射
熱陰極高頻濺射（三極型濺射）hotcathodehighfrequen cysputterin
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高頻無極燈
一種無極燈，相對低頻無極燈取的名字。目前常規頻率2.65MHz。 有關無極燈的理論研究起源於19世紀80年代。因為沒有電極消耗，其理論上擁有幾乎無限長的...
基本介紹 產品特點 技術指標 套用領域 性價比 -
高頻動態壓力感測器
高頻動態壓力感測器是測量範圍為0-200Pa -100MPa的感測器。
產品介紹 相關產品 中高溫 -
磁控濺射
，這樣在絕緣迴路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小...濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產生...運動的足夠動量，離開靶被濺射出來。 [1]種類磁控濺射包括很多種類...
原理 種類 濺射技術 磁控濺射設備的主要用途 -
薄膜技術與薄膜材料
沉積10.4離子束混合第11章 濺射鍍膜11.1離子濺射11.2濺射鍍膜方式11.3磁控濺射源11.4濺射鍍膜的實例第12章 化學氣相沉積...242.1.3 吸附泵292.1.4 濺射離子泵302.1.5 升華泵322.1.6...
圖書信息1 圖書信息2 -
射頻濺射
時氣體散射少而較二極濺射為高；高頻電場可以經由其他阻抗形式耦合進入沉積室...交流濺射系統，由於常用的交流電源的頻率在射頻段。如13.56 MHz...輝光放電熄滅和濺射停止，所以直流濺射裝置不能用來濺射沉積絕緣介質薄膜...
簡介 射頻濺射的基本原理 特點 套用
