標準哈氏槽哈氏槽的原理
是一種對電鍍溶液既簡單又實用的試驗槽，係為 R.O.Hull 先生在 1939 年所發明的。有 267 ml、500 ml及 1000 ml三種型式，但以 267 ml最為常用。可用以式驗各種鍍液，在各種電流密度下所呈現的鍍層情形，以找出實際操作最佳的電流密度，屬於一種"經驗性"的試驗。通常的做法是將表面故意皺摺的陽極，至於所用之電流密度及時間則隨各種鍍液而不定，須不斷試做以找出標準條件。鍍後可將陰極片的下緣，對準"電流密度尺"上某一所用電流密度處，即可看出陰極片上最佳區域所對應的實際電流密度。哈氏槽還有另一用途，是將陽極放在第 1 邊而將陰極放在第3 邊，亦可看出陰極片上最左側低電流區的鍍層情形
哈氏槽的種類
哈氏槽有 267 ml、500 ml及 1000 ml三種容積，267ml,如圖所示，陽極邊的尺寸為65mm,陰極變為100mm,內徑高度為65mm,一般材質為亞克力材質，耐溫65°500ml如圖所示，陽極邊的尺寸為65mm,y陰極變為200mm,內徑高度為65mm,一般材質為亞克力材質，耐溫65
1000ml哈氏槽，一般適用於鍍鉻溶液
哈氏槽陰陽極
哈氏槽陽極有銅、鎳，鉛，錫、石墨、不鏽鋼、白金鈦網等，尺寸為60*70mm 如圖哈氏槽陰極，有黃銅片，紅銅片，不鏽鋼片，鐵片等，尺寸65*100mm,如圖哈氏槽電流密度尺上面標註了哈氏槽高低電流區的電流密度，用於讀取哈氏槽陰極片上各個點的電流密度，如圖哈氏槽實驗
哈氏槽電鍍實驗，如圖所示
