超微加工技術

隨著積體電路規模的日益增大，元器件越來越小，各種微電子電路的尺寸間距、引線都已突破微米向納米前進，這就產生了超微加工技術。這種技術的關鍵是形成微加工區和引線光刻技術。

超微加工技術

為了提高加工精細水平

由傳統的接觸掩膜光刻發展到投影光刻，並採用波長短的紫外光同步輻射或電子束作為光（輻射）源，用它們進行曝光可以獲得更高的分辨能力。與超精細光刻技術配合的超微加工技術還有自對準技術、離子注入摻雜、雷射澱積布線。今後的微細加工方向，將是對這些裝置進行改良，開發分辨能力更高的抗蝕劑，以及採用能看到原子的掃描隧道顯微鏡ＳＴＭ和場離子顯微鏡ＦＩＭ等。