雷射曝光系統和噴墨系統的區別是,雷射系統使用激代替油墨,雷射頭產生光柱對網版感光膠直接進行曝光,不需要後面的全曝光步驟。
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電子束曝光微納加工技術
《電子束曝光微納加工技術》,作者顧文琪,2004年7月由北京工業大學出版社出版,本書系統地介紹了電子束曝光技術的發展歷史和原理、系統的組成和分類、套用和發展前景。
基本信息 內容介紹 目錄 -
雷射測長技術
利用雷射單色性和方向性好的特性測量長度的長度計量技術。常用的方法有干涉法、掃描法、光強法和準直法等。
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電子束曝光
電子束曝光(electron beam lithography)指使用電子束在表面上製造圖樣的工藝,是光刻技術的延伸套用。 光刻技術的精度受到光子在波長...
基本結構 電子束曝光系統 相關工藝 特點 操作 -
光學投影曝光微納加工技術(電子束離子束光子束微納加工技術系列專著)
《光學投影曝光微納加工技術(電子束離子束光子束微納加工技術系列專著)》,作者:姚漢民、胡松、邢廷文,由北京工業大學出版社於2006年出版,本書系統介紹主...
內容提要 編輯推薦 作者簡介 目錄 -
遠程雷射相機
遠程雷射相機是一款能夠在一公里外拍攝的雷射照相機。其工作原理是雷射射到遠處物體上後會反射回來,相機隨後會測量雷射傳回探測器的時間。其開發者是愛丁堡赫瑞瓦...
基本簡介 工作原理 優勢介紹 主要用途 工作原理 -
紫雷射
紫雷射不是氬雷射,有很多人被誤導紫雷射是相同於十多年前的氬雷射。但事實上這是全然不同的兩種雷射科技,氬雷射是早期的氣體雷射,體積大,且需要龐大的能源才能...
起源與發展 優點 -
雷射光刻
雷射光刻是利用光學-化學反應原理等方法,將電路圖形刻印在介質表面,達到想要的圖形刻意功能的新型微細加工技術。
光刻技術 光複印和刻蝕工藝 曝光方式常用的曝光方式分類 光致抗蝕劑 技術特點 -
雷射直寫
雷射直寫是製作衍射光學元件的主要技術之一,它利用強度可變的雷射束對基片表面的抗蝕材料實施變劑量曝光,顯影后便在抗蝕層表面形成要求的浮雕輪廓。 雷射直寫制...
衍射光學元件 雷射直寫簡介 原理 發展過程 研究的意義 -
雷射光電檢測
《雷射光電檢測》是2004年1月國防科技大學出版社出版的圖書,作者是呂海寶。本書主要介紹了雷射原理的基本知識、雷射干涉、雷射衍射、雷射全息干涉測量、光纖...
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