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光刻技術
積體電路製造中利用光學- 化學反應原理和化學、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質層上，形成有效圖形視窗或功能圖形的工藝技術。隨著半導體技術的發...
簡述 工藝流程 曝光系統 光抗蝕劑 基本步驟 -
雷射光刻
雷射光刻是利用光學-化學反應原理等方法，將電路圖形刻印在介質表面，達到想要的圖形刻意功能的新型微細加工技術。
光刻技術 光複印和刻蝕工藝 曝光方式常用的曝光方式分類 光致抗蝕劑 技術特點 -
雷射立體成形
《雷射立體成形：高性能緻密金屬零件的快速自由成形（材料科學與工程）》是一本系統論述雷射立體成形技術的專著，作者們系統地總結了十餘年來在雷射立體成形方面的...
內容簡介 圖書目錄 雷射成形 -
納米積體電路製造工藝（第2版）
《納米積體電路製造工藝（第2版）》是2017年清華大學出版社出版的書籍，作者是張汝京等。這是國內首本關於納米積體電路製造工藝的著作。半導體產業領軍人物張...
內容簡介 作者簡介 圖書目錄 -
材料加工工藝
《材料加工工藝》是清華大學出版社出版的圖書，作者是黃天佑等。
前言 目錄 圖書信息2 內容簡介 前言 -
立體平版印刷快速原型
立體平版印刷快速原型（Stereolithography），又稱為光敏液相固化法、光固化成形、立體光刻等，是最早出現的技術最成熟和套用最廣泛的快速原型技術。
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北京同步輻射裝置
，小角散射，漫散射站等，另外包括光電子能譜，光刻站，軟X射線譜站等，經多年...為用戶服務，有光電子能譜，光化學，光刻，軟X射線譜及時間分辨五個實驗站...
概述 什麼是同步輻射 同步輻射光的特點 同步輻射的歷史、現狀及發展 -
快速原型技術
——立體光刻工藝（SL）2.3.2 由固相生成的工藝2.3.2.1 粉末... 原型機3.3.1 光聚合·立體光刻（SL）3.3.1.1 機器獨特的基本原理3.3.1.2 立體光刻成型（SLA）——3D...
內容簡介 目錄 -
晶片
• 晶片：半導體元件產品的統稱• 晶片：美國漫威漫畫旗下人物 ...
介紹 積體電路的發展 分類 製造 -
晶片[半導體元件產品的統稱]
為現代光刻工藝的基本流程和光刻後的檢測步驟主參見Damascene...耐溫能力，其材料為光阻的一種。晶圓光刻顯影、蝕刻光刻工藝的基本流程如圖1...，或是半導體的工藝突破，兩者都是息息相關。 分類積體電路的分類方法很多...
簡介 介紹 積體電路發展 分類 製造
