基區擴散隔離

基區擴散隔離(Base diffusion isolation,BDI)是雙極型積體電路中所採用的一種隔離技術，它屬於p-n結隔離技術。
實際上是這樣來實現隔離的：在基區擴散的同時，形成一個隔離帶，並且在此隔離帶上加上一個大的反向電壓，使得隔離帶的耗盡層直達襯底。