冷卻水循環系統

冷卻水循環系統

冷卻水循環系統是指冷卻水換熱並經降溫,再循環使用的給水系統,包括敞開式和密閉式兩種類型。

組成部分

監控系統管路中介質流量大小,在管路因堵塞等因素照成的管內流量過低或者過高,可以及時向控制系統發出下線報警點(流量過低時)或者上線報警點(流量過高時)提供開關量信號,我們稱之為流量報警開關。

原理

冷卻水循環系統 冷卻水循環系統

以水作為冷卻介質,並循環使用的一種冷卻水系統。主要由冷卻設備、水泵和管道組成。冷水流過需要降溫的生產設備(常稱換熱設備,如換熱器、冷凝器、反應器)後,溫度上升,如果即行排放,冷水只用一次(稱直流冷卻水系統),使升溫冷水流過冷卻設備則水溫回降,可用泵送回生產設備再次使用,冷水的用量大大降低,常可節約95%以上。冷卻水占工業用水量的70%左右,因此,冷卻水循環系統起了節約大量工業用水的作用。

從冷卻塔來的較低溫度的冷卻水,經冷卻泵加壓後送入冷水機組,帶走冷凝器的熱量後,溫度便升高了,然後被送到冷卻塔上進行噴淋,由於冷卻塔風扇的轉動,使冷卻水在噴淋下落過程中,不斷與室外空氣發生熱濕交換而冷卻,冷卻後的水落入冷卻塔積水盤中,然後再次被冷卻泵加壓後進入下一個循環。這就是它的流程,原理也很簡單,就是一個熱量交換的過程,這跟我們散熱器採暖一個道理。

分類

冷卻設備有敞開式和封閉式之分,因而冷卻水循環系統也分為敞開式和封閉式兩類。敞開式系統的設計和運行較為複雜。

敞開式

冷卻設備有冷卻池和冷卻塔兩類,都主要依靠水的蒸發降低水溫。再者,冷卻塔常用風機促進蒸發,冷卻水常被吹失。故敞開式冷卻水循環系統必須補給新鮮水。由於蒸發,循環水濃縮,濃縮過程將促進鹽分結垢(見沉積物控制)。補充水有稀釋作用,其流量常根據循環水濃度限值確定。通常補充水量超過蒸發與風吹的損失水量,因此必須排放一些循環水(稱排污水)以維持水量的平衡。冷卻水循環系統在敞開式系統中,因水流與大氣接觸,灰塵、微生物等進入循環水;此外,二氧化碳的逸散和換熱設備中物料的泄漏,也改變循環水的水質。為此,循環冷卻水常需處理,包括沉積物控制、腐蝕控制和微生物控制。處理方法的確定常與補給水的水量和水質相關,與生產設備的性能也有關。當採用多種藥劑時,要避免藥劑間可能存在的化學反應。

封閉式

封閉式冷卻水循環系統採用封閉式冷卻設備,循環水在管中流動,管外通常用風散熱。除換熱設備的物料泄漏外,沒有其他因素改變循環水的水質。為了防止在換熱設備中造成鹽垢,有時冷卻水需要軟化(見水的軟化)。為了防止換熱設備被腐蝕,常加緩蝕劑;採用高濃度、劇毒性緩蝕劑時要注意安全,檢修時排放的冷卻水應妥善處置。

優點

1、清除生物黏泥,保障冷卻塔正常運行;

2、徹底殺滅各種細菌,保證人的生命健康;

3、對人和環境沒有任何危害,對設備不產生腐蝕;

4、系統智慧型化運行,性能穩定,無需人員職守;

5、不需要停產刷洗,提高生產效率;

6、降低循環系統的能耗,降低企業運行成本;

7、溶液可完全降解,直接排放,不增加後續污水處理的費用。

工業套用

對半導體製造裝置發熱部分的冷卻:

單晶片洗淨轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴塗裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
對雷射裝置發熱部分的冷卻:
雷射加工、熔接機的發熱部分、雷射標誌裝置、發生裝置、二氧化碳雷射加工機等。
其他產業用機器發熱部分的冷卻:
等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗淨機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。

分析檢測機器的發熱部分的冷卻:

電子顯微鏡的光源、ICP發光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈衝條幅器的發熱部分、原子吸光光度計的光源等。

數控工具機、加工中心冷卻介質的降溫。

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