光譜儀用高純氬氣純化設備

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高純氬氣純化裝置採用非蒸散型鋯鋁16吸氣劑為淨化劑，在一定的溫度下，吸氣劑可與氬氣中的微量雜質O2、N2、H2、H2O、CO、CO2、CH4等等形成穩定的化合物或固溶體，從而達到對氬氣精製的目的，本裝置淨化器採用特殊結構，具有接觸面積大，阻力小，淨化效率高，熱功損耗小等優點。本裝置可與區熔矽單晶爐配套使用可用於雷射器、濺射、半導體生產，氣相色譜儀、特殊燈泡稀有金屬加工等需要用高純氬氣的生產技術領域。
技術保障措施；
1 組合式純化工藝，分級處理。
2 淨化器採用特殊結構和裝料方法，流速設計合理，氣流分布均勻。
3 淨化爐採用特殊設計的加熱構造，加熱均勻、穩定。
4 採用優質管件，閥門，避免管道和閥門影響氣體質量。
5 採用優質的電器元件和控制儀表，保證溫度穩定，減少溫度和影響。
6 淨化器的活化程式，嚴格按照活化程式執行，根據現場實際情況適當調整。
7 對用戶的操作員進行設備操作培訓，了解設備工作原理
掌握設備操作方法，熟悉設備的開車、停車、停電、停水處理方法。
8 對用戶設備建立檔案，及時提醒用戶對設備進行例行檢
和維護。是設備處在最佳工作狀態。
主要技術指標:原料氬純度要求：雜質要求：
雜質
N2
O2
CO2
CH4
露點
含量ppm
<100
≤15
<5
<5
-50℃