等離子表面處理儀

等離子清洗機(plasma cleaner)也叫等離子清潔機,或者等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術,利用電漿來達到常規清洗方法無法達到的效果。電漿是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態,並不屬於常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。電漿的“活性”組分包括:離子、電子、原子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔、塗覆等目的。

產品簡介:
等離子清洗機(plasmacleaner)也叫等離子清潔機,或者等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術,利用電漿來達到常規清洗方法無法達到的效果。電漿是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態,並不屬於常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。電漿的“活性”組分包括:離子、電子、原子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔、塗覆等目的。
中文名稱:美國CIF等離子清洗機外文名稱:PlasmaTreatmentSystem
結構:控制單元、真空腔體以及真空泵別名:等離子表面處理儀,等離子刻蝕儀,等離子鍍膜機

等離子清洗機等離子清洗機

工作原理:
電漿是物質的一種存在狀態,通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態存在,如地球大氣中電離層中的物質。電漿狀態中存在下列物質:處於高速運動狀態的電子;處於激活狀態的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子;未反應的分子、原子等,但物質在總體上仍保持電中性狀態。
在真空腔體裡,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的電漿,通過電漿轟擊被清洗產品表面.以達到清洗目的.美國CIF公司所生產的等離子清洗機不僅外觀設計美觀、而且內在質量過硬,產品性能穩定可靠。主要核心部件全部採用原裝進口。
技術參數
1.產品型號:CPC-A
2.艙體容積:2.6L
3.射頻頻率:40KHz
4.射頻功率:10-200W無極可調
5.電源:220V50/60HZ
6.電流:1.2A
7.時間設定:1-99分59秒
8.氣體穩定時間:1分鐘
9.真空度:100Pa以內
10.等離子激發方式:電容式
11.外形尺寸:L*W*H:480*450*265mm
12.整機重量:15Kg
產品特點
採用美國霍尼韋爾真空壓力感測器,性能穩定可靠;
採用美國氣體浮子流量計,流量顯示準確;
獨特雙路氣體控制方式,氣體控制更加穩定;
艙體、管路、閥體全部採用優質不鏽鋼材質,防腐不生鏽;
手動、自動兩種工作模式,可根據客戶需求任意切換;
觸摸按鍵+4.3寸大螢幕彩色液晶顯示屏設計,顯示清晰,操作簡單;
智慧型程式化控制,可程式自動完成整個實驗過程;
無需任何耗材,使用成本低;
無需特殊進行維護,在日常使用過程中保持儀器清潔即可;
整機保修一年。
套用領域
等離子清洗機在科學研究各方面已經取得了廣泛的運用,涉及材料學,光學,電子學,醫藥學,環境學生物學等不同領域,主要用於以下實驗:
表面清潔
表面活化
鍵合
去膠
金屬還原
簡單刻蝕
器械的消毒
去除表面有機物
疏水實驗
鍍膜前處理等

相關詞條

熱門詞條

聯絡我們