洗脫法是在定向自組裝工藝中實現中性襯底中部分區域非中性化的一種手段。
圖1的“洗脫法”方案是由Tokyo Electron公司和IMEC合作開發,在2012年的SPIE 會議上發布,該方案分主要工藝步驟如下:
先採用正性浸沒式光刻膠在 BARC 層上製作出大尺寸條狀結構;
經過 UV 曝光和烘烤將光刻膠極性反轉,使其在後續洗脫中能夠溶於TMAH 顯影液;
在光刻膠條狀結構上製作一層中性層;
使用TMAH 將光刻膠條狀結構及其上方與側壁的中性層洗脫,留下覆蓋在襯底上的周期性中性層圖形,此時被洗去的部分露出非中性的襯底表面;
旋塗嵌段共聚物;
退火使嵌段共聚物分相。
1.先採用正性浸沒式光刻膠在 BARC 層上製作出大尺寸條狀結構;
2.經過 UV 曝光和烘烤將光刻膠極性反轉,使其在後續洗脫中能夠溶於TMAH 顯影液;
3.在光刻膠條狀結構上製作一層中性層;
4.使用TMAH 將光刻膠條狀結構及其上方與側壁的中性層洗脫,留下覆蓋在襯底上的周期性中性層圖形,此時被洗去的部分露出非中性的襯底表面;
5.旋塗嵌段共聚物;
6.退火使嵌段共聚物分相。
圖1 洗脫法
洗脫法的工藝較為簡單,但獲得的工藝視窗較小,且缺陷較多,這是由於其襯底表面的不平整引起的 。