晶片開封機

晶片開封機分用化學腐蝕和雷射開封兩種,區別是雷射開封比較簡單,而且開封銅線邦定的IC比較容易。

開封, 即開蓋/開帽, 指去除ic封膠, 同時保持晶片功能的完整無損, 保持 die, bond pads, bond wires乃至lead-frame不受損傷, 為下一步晶片失效分析實驗做準備.

去封範圍:* 普通封裝* COB、BGA * 陶瓷、金屬等其它特殊封裝

酸法塑膠封裝器件自動開封機 DECAP

* 對各種不同的塑膠封裝進行開封

* 專利混酸技術使開封效果更好更穩定

使用酸的種類:硫酸,發煙硝酸,混酸。

NSC / PS102W (NEW MODEL) Auto-Mixed-Acid Type

01 使用酸的種類 3 種: 硫酸, 發煙硝酸, 混酸

02 工作溫度範圍 可以到達 250 度 (較廣的範圍)

03 混酸的工作溫度範圍 可以到達 250 度

04 酸的混合 機器可以自動混合9種不同比率的混酸

05 酸混合的方法 (*) 通過使用具有專利技術的混合攪拌器, 使得不同比率的混酸得到完全充分的攪拌和混合

06 機器結構(*) 分離式結構設計, 控制部分可以和開封部件彼此分開.

07 設備的排氣設計 不需要, 因為控制部分有很好的密封性, 並且是和開封部件彼此分開.

08 腐蝕時間的設定範圍 0-99min59sec

09 使用的溫度感測器 (*) 最先進的鉑金溫度感測器

10 溫度控制 使用P.I.D. 法

11 清潔用的氣體 N2

12 工作壓力 3Kg/cm2

13 消耗量 2 l/min

14 在使用後自動關閉N2 Yes

15 控制部分安放的位置 在通風櫃的裡面或外面

16 腐蝕頭的材料 特富龍

17 腐蝕頭 新設計的腐蝕頭可以廣泛使用於不同的腐蝕區域,不需要更換腐蝕頭

18 腐蝕區域的保護蓋材料 (*) 雙層設計的蘭寶石玻璃

19 腐蝕區域保護蓋的設計 (*) 垂直移動

20 熱交換器 內部管道式設計, 使得有更好的密封及保護. 有四根加熱棒, 加熱更均勻

21 控制器 微處理器

22 酸的選擇 一鍵式選擇

23 設備自我診斷系統 有

24 BGA 固定器 有,標準部件使用於所有BGA

25 小樣品適配器 有 專為小樣品設計,使小樣品DECAP 更容易

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